| ID du document (ISN) | 46368 |
| Numéro CIS |
86-1101 |
| ISSN - Titre de série |
0019-1604 - Medicine and Biology |
| Année |
1984 |
| Numéro de convention ou de série |
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| Auteur(s) |
Itoh Y., Ohtani M., Niiya Y., Shima S. |
| Titre
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Relation entre le taux de vanadium sanguin et la concentration d'acide biliaire sérique chez des travailleurs exposés au plomb |
| Informations bibliographiques |
août 1984, vol.109, n°2, p.113-115. Illus. 9 réf. |
| Résumé
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Résultats de mesures du taux de plomb et de vanadium sanguins chez des travailleurs de la sidérurgie en bon état de santé, exposés au plomb, et comparaison avec les relevés de la concentration sérique d'acides biliaires et de plusieurs enzymes. Une corrélation significative n'a été relevée qu'entre le taux de vanadium et la concentration d'acides biliaires. Ceci tend à prouver que le vanadium inhibe la fonction sécrétrice de la vésicule biliaire. |
| Descripteurs (primaires) |
plomb et ses composés; vanadium et ses composés; sidérurgie; affections de la vésicule biliaire |
| Descripteurs (secondaires) |
vanadium; plomb |
| Type de document |
D - Articles de périodiques |
| Sujet(s) |
Pathologie professionnelle
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| Domaine(s) thématique(s)
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| Catégorie(s) de recherche
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Substances inorganiques
Maladies gastro-intestinales
Industrie du fer et de l'acier
Plomb et composés
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